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印制电路板基板材料的发展
2018-12-28  浏览:85
印制电路板基板材料的发展,已经走过了近50年的历程。加之此产业确定前有50年左右的时间对它所用的基本原材料——树脂及增强材料的科学实验与探索,PCB基板材料业已累积了近百年的历史。基板材料业的每一阶段的发展,都受到电子整机产品、半导体制造技术、电子安装技术、电子电路制造技术的革新所驱动。
20世纪初至20世纪40年代末,是PCB基板材料业发展的萌芽阶段。它的发展特点主要表现在:此时期基板材料用的树脂、增强材料以及绝缘基板大量涌现,技术上得到初步的探索。这些都为印制电路板用较典型的基板材料——覆铜板的问世与发展,创造了必要的条件。另一方面,以金属箔蚀刻法(减成法)制造电路为主流的PCB制造技术,得到了较初的确立和发展。它为覆铜板在结构组成、特性条件的确定上,起到了决定性的作用。
覆铜板在PCB生产中真正被规模地采用,较早于1947年出现在美国PCB业。PCB基板材料业为此也进入了它的初期发展的阶段。在此阶段内,基板材料制造所用的原材料——有机树脂、增强材料、铜箔等的制造技术进步,对基板材料业的进展予以强大的推动力。正因如此,基板材料制造技术开始一步步走向成熟。
PCB基板-覆铜板
集成电路的发明与应用,电子产品的小型化、高性能化,将PCB基板材料技术推上了高性能化发展的轨道。PCB产品在世界市场上需求的迅速扩大,使PCB基板材料产品的产量、品种、技术,都得到了高速的发展。此阶段基板材料应用,出现了一个广阔的新领域——多层印制电路板。同时,此阶段基板材料在结构组成方面,更加发展了它的多样化。
20世纪80年代末,以笔记本电脑、移动电话、摄录一体的小型摄像机为代表的携带型电子产品开始进入市场。这些电子产品,迅速朝着小型化、轻量化、多功能化方向发展,极大地推动了PCB向着微细孔、微细导线化的进展。在上述PCB市场需求变化下,可实现高密度布线的新一代多层板——积层多层板(简称BUM)于20世纪90年代问世。这一重要技术的突破,也使得基板材料业迈入了一个高密度互连(HDI)多层板用基板材料为主导的发展新阶段。在这个新阶段中,传统的覆铜板技术受到新的挑战。PCB基板材料无论是在制造材料、生产品种、基材的组织结构、性能特性上,还是在产品的功能上,都有了新的变化、新的创造。
有关资料显示,全世界刚性覆铜板的产量,在1992年~2003年的12年间,年平均递增速度约8.0%。2003年我国刚性覆铜板的总年产量已达到10590万平方米,约占全球总量的23.2%。销售收入达到61.5亿美元,市场容量达14170万平方米,生产能力达15580万平方米。这些都表明我国已成为世界覆铜板的制造、消费的“超级大国”。
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